Moderne Reinigungsanlagen in der industriellen Teilereinigung setzen zunehmend auf kombinierte Medienführung, um höchste Reinheitsanforderungen bei gleichzeitig hoher Effizienz zu erfüllen. Dabei unterscheiden sich Hybridanlagen und BEYOND-Anlagen grundlegend in ihrer Prozessstrategie.
In Hybridanlagen werden Lösemittel und wässrige Medien getrennt in zwei unabhängigen Kreisläufen geführt. Die Reinigung erfolgt in mehreren Schritten, wobei zunächst organische Rückstände wie Öle und Fette mit Lösemitteln entfernt werden, gefolgt von einer wässrigen Reinigung zur Entfernung anorganischer Verunreinigungen wie Salze oder Partikel. Diese Trennung erlaubt eine gezielte Medienwahl und Prozessoptimierung, ist jedoch mit längeren Zykluszeiten verbunden, da die Medien nacheinander eingesetzt werden müssen.
BEYOND-Anlagen hingegen verfolgen einen innovativen Ansatz: Hier werden Lösemittel und Wasser gleichzeitig in derselben Reinigungskammer eingesetzt. Durch diese parallele Medienführung lassen sich organische und anorganische Rückstände in einem einzigen Prozessschritt entfernen, was die Chargenzeiten deutlich verkürzt und die Effizienz steigert. Unterstützt wird dieser Prozess durch die CNP-Technologie (Cyclic Nucleation Process), bei der gezielt Kavitation erzeugt wird, um auch feinste Verschmutzungen aus komplexen Geometrien zu lösen – materialschonend und hochwirksam.
Diese Systems sind modular aufgebaut, hochautomatisiert und besonders geeignet für die Reinigung von hybriden Bauteilen, empfindlichen Materialien und Anwendungen mit höchsten Reinheitsanforderungen, etwa in der Medizintechnik, Optik, Halbleiterfertigung oder Luftfahrt. Sie vereinen maximale Reinigungsleistung, kurze Zykluszeiten und hohe Prozesssicherheit in einem einzigen System.
Praxisbeispiel einer hybriden Reinigungsanlage für Präzisionsteile und Werkzeuge mit höchsten Anforderungen an Partikelfreiheit, Prozesssicherheit und Reinigungsqualität.
Eine Anlage, die Lösemittel und Wasser in getrennten Kreisläufen nutzt, um unterschiedliche Verschmutzungen zu entfernen.
Eine fortschrittliche Anlage, die Lösemittel und Wasser gleichzeitig in derselben Reinigungskammer verwendet.
Ein Verfahren zur kontrollierten Erzeugung von Kavitation, das die Reinigungswirkung intensiviert und feinste Rückstände entfernt.
Um sowohl organische (Öle, Fette) als auch anorganische (Salze, Partikel) Verschmutzungen effizient zu entfernen.
Kürzere Zykluszeiten und maximale Reinigungsleistung durch parallele Wirkung beider Medien.
Lösemittel- und Wasserreinigung erfolgen nacheinander in getrennten Prozessschritten.
Beide Medien wirken gleichzeitig in einem kombinierten Reinigungsschritt..
Hybride, komplexe und empfindliche Bauteile mit hohen Reinheitsanforderungen und verschiedenen organischen und anorganischen Verschmutzungen.
Ja, bei richtiger Parametrierung ist CNP materialschonend und universell einsetzbar.
Durch Partikelmessung, Rückstandsanalyse, Mikroskopie oder Oberflächenprüfung.
Ja, sie arbeiten in geschlossenen Systemen mit Prozessüberwachung und Lösemittelrückgewinnung.
Durch Destillation und Filtration innerhalb der Anlage.
Ja, durch geringeren Medienverbrauch, geschlossene Kreisläufe und energieeffiziente Prozesse.
Sie werden gesammelt, aufbereitet oder fachgerecht entsorgt.
Ja, sie erfüllen höchste Sauberkeitsstandards und sind für Reinraumprozesse konzipiert.
Je nach Anwendung bis zu 30–50 % kürzere Zykluszeiten gegenüber Hybridanlagen.
Ja, durch automatisierte Steuerung und dokumentierte Prozessparameter.
Vollständig – inklusive Beladung, Reinigung, Trocknung und Konservierung.
Modular aufgebaut und anpassbar an unterschiedliche Bauteile und Anforderungen.
Medizintechnik, Optik, Halbleiterindustrie, Luftfahrt, Präzisionsmechanik.
Sie suchen eine Ultraschallreinigungsanlage für höchste Ansprüche? Kontaktieren Sie uns jetzt für eine persönliche Beratung und Testreinigung bei HEMO!